气相沉积加工厂在线咨询「拉奇纳米镀膜」

镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供充分的条件。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。

真空镀膜加工均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜加工均匀性。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，薄膜，如果镀膜过程不科学，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜加工的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性

镀膜可以显著提高材料表面的硬度、抗腐蚀性、耐磨性、导热性等性质，扩大材料的应用范围。

通过定向压应力、控制表面粗糙度等手段，还可以对材料的机械性能进行调节。

膜厚可控性和重复性好，与基片的附着力强，膜层纯度高、质量好。

PVD镀膜能够呈现出丰富多样的颜色和光泽，从金属色到各种彩色，满足了不同产品的装饰需求。