曝光显影工艺
更新为:企业本身战略发作严重性调整,如重新命名、重新注册、推出新产品、企业品牌的角色改变等,是一种跳跃式的更新方法。例如2013年方正集团更新的标志,标志着方正集团一次严重的品牌晋级。a+b更新为a/b:往往是两个品牌或logo兼并成一个品牌或logo,兼并后的logo保存大部分其中之一的元素,且含有另一个logo的少部分元素。a+b更新为ab:更新兼并后logo,可能包括前两个品牌的称号,也可能包括前两个logo的部分要点元素,但又差异于之前两个logo。a+b更新为c:保存之前两个logo的部分元素,成为一个彻底不同的logo。显影装置,用于对曝光后的基板进行显影,该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处。
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