电子产品曝光显影加工供应诚信企业「在线咨询」土豆不宜存放在什么地方

当感光片的曝光量达到一定程度后，感光中心便因银的增加扩大而成显影中心，它是潜像的根据，所以生成卤元素，则被周围胶质吸收。

转变潜像形成可见像

要把潜像变为可见像，必须使显影中心处的银原子继续增多，直到人的眼睛清楚地观察到，这就通过显影的作用来完成。

显影的目的是将感光片乳剂层受光处银盐分子的银离子还原成银原子，这一点它与曝光的作用一样，不过它是靠来完成的。因此，显影时也可以看成曝光的继续。在显影中能还原卤素银的很多，它们都是易于氧化的化学物质。就针对二酚为例来说明显影的原理。

促进剂的作用是调整显影液中氢离子的浓度，从而控制显影剂的电离浓度。显影过程中，溶液中释放出的氢离子，如果不加以控制，那么会使溶液中氢离子浓度继续增大，使得PH值明显降低，显影剂的电离速度就会明显减慢，从而严重影响了显影速度。感光特性曲线（黑化曲线、层次曲线）反映了曝光量与照相感光层黑化程度之间的关系，如图5-37所示。碱的促进作用就在于它与氢离子不断中和而生成水，从而使显影液中的显影离子保持稳定的浓度，使显影进行得正常。

显影过程中值得注意的问题

A、显影干净程度：可用修版膏检查空白地方，用密度计测量应（0.011（一般在0.005以下）

B。显影后的留膜率：可用密度计来衡量（显影前后密度的比值应在85%以上）

C、版面的明显问题：条纹（制版可能引起）当曝光显影不足时可能引起显影不均匀（显影机可能引起）

D、其它问题：粘脏（辊子太脏可能引起，注意清洁辊子） ；擦伤（砂粒、压力、毛刷、导轨，也可能由取版造成） ；保护胶（清洗及更新） ；水洗是否充分，液体是否循环；设备的日常维护状态（干净程度，是否有日常维护程序）

“曝光显影工艺就是我们常说的黄光工艺，这种曝光工艺其实是很成熟的，它应用在PCB行业、半导体行业、甚至显示面板行业，但这种工艺应用到现在的3D玻璃盖板工艺的时间并不长。这种工艺的优点是曝光的精度高，它的良率高。”

虽然如此，但是PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。