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半导体样品的特定部分被水蒸气氧化。监控窗口，半导体清洗设备，设置在氧化室的其中一个室壁中，并设置在能够面对支撑在底座上的半导体样品的位置。监测部设置在氧化室的外部，并可通过监测窗口面对支撑在基座上的半导体样品。以及调节部，用于调节所述基座与所述监视部之间的距离。

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半导体样品的特定部分被水蒸气氧化。监控窗口，半导体清洗设备，设置在氧化室的其中一个室壁中，并设置在能够面对支撑在底座上的半导体样品的位置。监测部设置在氧化室的外部，并可通过监测窗口面对支撑在基座上的半导体样品。以及调节部，用于调节所述基座与所述监视部之间的距离。

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净水装置系统采用先进的全膜除盐处理工艺，通过多级处理工艺，将普通水源水净化成高电阻率的超纯水。

该多功能高压水冲洗装置通过冲洗喷出超纯水形成高压水柱，通过四交叉等多种组合冲洗方式，实现了高速水柱在接近带电设备时由梁状向状的转变。逐层漂洗，达到带电清洗的效果。

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技术先进的纯净水处理和冲洗设备。

纯水处理装置控制系统采用一键式操作系统，通过计算机程序控制整个制水过程和化学清洗过程，并利用分布在整个系统关键节点的传感器网络获取水位、水流量、水压等状态信息。控制参数，全膜多级处理工艺，产水，操作方便，纯水电阻率高

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冲水装置控制系统采用本地控制和遥控系统，通过控制箱和红外线遥控器控制整个冲水过程，可远程控制冲水设备的启停。高压带电水冲洗系统不需要清洗液，也不需要停电处理。操作简单、，简化了带电冲洗过程，降低了冲洗成本，实现了对变电站设备和环境的。

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冲洗方式多样，效率更高。

带电水冲洗过程中使用220千伏变电设备带电水冲洗作业技术，将不同类型水处理方法、水冲洗方法进行组合使用，根据冲洗设备类型、现场布置、污秽类型及积污程度等现场实际情况，选择合适的冲洗方法：对大型设备用四交叉组合多回冲洗、中型设备用三交叉冲洗、小型设备用双跟踪冲洗同时组合应用双跟踪两回冲洗、三跟踪一冲三回等，程度提升了冲洗效率及效果。

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水泥粉尘与雨水和水分结合会牢牢地附着在设备表面，即使用干冰清洗也很难将其清除。然而，断路器、隔离开关、接地开关等电气设备，由于与周围环境中的氧气和化学物质接触，形成铁锈和化学腐蚀变质层的污垢，因此很难使用绝缘清洗剂。

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因此，这种类型的污垢的清除不能通过带电清洗进行。设备必须停止，并应使用酸性或碱性清洗剂通过化学反应进行清洗。清洗后，用大量清水冲洗，直至表面的pH值达到7。然后用相对密度大于1的绝缘清洁剂润湿，便于“挤出”设备槽、死角等处的水分，再用强风吹干，恢复其绝缘性能。然后就可以恢复电力，可以进行正常的操作。