pvd金属真空镀膜即时留言「金百辰」看电视的利与弊

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

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pvd金属真空镀膜与您分享光学薄膜的应用前景

由于光学薄膜具有良好的性能，使其不仅可以应用在光学领域中，我们生活中的各个领域都有应用，我们的手机电脑屏幕，眼镜外层的薄膜，光学器件和光通信中的应用更是不胜枚举。现在光学薄膜在中的应用范围也在逐渐扩宽，如弹中的激光器，滤光片;的传感器，警戒系统，上面都镀有光学薄膜。

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pvd金属真空镀膜与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以蒸发高熔点材料，如w，Mo，A1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层质量。