日常生活中，很多经常需要使用EDI超纯水设备的行业跟我们密切相关。例如电子光电行业、化工行业、生物制药行业、精密机械行业、电镀涂装行业、化妆品行业等，这些行业都有一个共同的特点，那就是对水质的纯度要求较高，EDI超纯水设备可以很好地解决这个问题。
我们需要知道，EDI超纯水设备通常是由预处理过滤设备、反渗透设备和EDI模块三个单位组合而成，其中预处理过滤设备和反渗透设备可以净化原水达到饮用水标准，而EDI模块通过电解水质达到目标纯度。
EDI超纯水设备工作原理：通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生，补充了离子交换树脂，并不必因再生而停机。
电除盐EDI模块：电除盐EDI模块的灵活性在于，针对不同行业对水质纯度的要求，可以通过不同数量的模块组合搭配，从而达到目标纯度。
电子超纯水设备让电子行业遇“芯荒” 心不慌芯片的制造过程很复杂，从设计、生产再到封装和测试，每一步都非常重要。在制造环节中要解决的问题有耗材、晶圆、光刻胶、超纯水、各种离子等。芯片制造的关键设备之一是电子电子超纯水设备，可用于生产芯片清洗的超纯水，而超纯水的质量直接影响到芯片的质量。电子超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成。 电子超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
超纯水，也称为UP水，是指电阻率为18 mΩ*cm(25℃)的水。除水分子外，这种水几乎不含杂质、细菌、病毒、氯化和其他有机物质。当然，也不含人体所需的矿物质微量元素，也就是说，水几乎不含有除氧和氢以外的所有原子。它可用于使用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的临界精细技术制备超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)的过程。