金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
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清洁时，请注意不要使用粗糙或尖锐的材料擦拭产品表面，尤其是镜面处理的产品。请使用不易脱毛的柔软天鹅绒布。沿线擦拭沙钢和拉丝表面，否则很容易得到刮花。
如果表面有灰尘且污垢易于清除，可以用绒布和清水清洗；对于粘合剂组分，使用酒精或和苯擦洗。
表面被油脂，机油和润滑油污染。用天鹅绒布清洁后，请使用中性清洁剂，氨水或清洁剂进行清洁。
如果表面被漂白剂或酸粘附，请立即用水冲洗，然后浸入或中性碳酸钠溶液中，并用中性清洁剂或温水洗涤。
表面有彩虹纹，这是由于过度使用清洁剂引起的
禁止使用含有漂白成分和磨料的洗涤液，钢丝球，研磨工具等进行清洁。为避免残留的洗涤液和腐蚀表面，洗涤结束时应用清水洗涤表面。
禁止将产品与强酸接触。和碱性化学品。
真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
(2)轰击清洗
真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)手套箱
①沉积锆底层
真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。
②镀ZrN膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。
离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。