真空除气炉的构成介绍
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。
真空箱：采用304不锈钢材质制造，分为上中下三个独立的真空箱室，其内表面在加工后经除油、电抛光处理，保证了较少的藏气，提高了真空箱室的抽空效率和极限真空。真空箱室外部有加强筋，保证真空箱室承压能力。每个真空箱室门中间部位各具有一个Φ100石英观察窗，真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接，方便快捷，并减少震动。真空箱室开门为上中下三开门，氟胶圈型式密封，向右侧侧开门。
真空除气炉的构成介绍
真空测量装置：采用复合真空计，使测量更加准确。
加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空除气储存柜设备用途
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
① 极限真空度高；
② 控温精度高；
③ 更高的升温速率；
④ 更加智能化；
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡；
⑥ 降低产品的氧化性；
⑦ 提高工艺室的洁净度。