PVD涂层是采用物理气相沉积法（PVD技术）制备的涂层，起初主要用于高速钢类的刀具涂层，之后得到大幅推广使用，其应用范围也不再局限于切削刀具领域，逐渐向航空航天、、电子通讯、汽车零件等领域应用。在PVD涂层制备过程中，可能存在某些表面缺陷，要使用表面处理技术来改善其性能，提高使用质量。
超声清洗
超声清洗能将PVD涂层产品表面油污、灰尘及氧化杂质清除，保证待镀产品表面清洁，提高膜基结合力。在工业生产中，对于不同表面状况的待镀产品，超声清洗一般有粗洗和精洗。粗洗耗时短，只是对待镀产品进行简单的除油、除锈超声清洗，主要针对一些表面已经有涂层或者需要钝化的产品；精洗耗时较长，需要使用清洗线各功能槽清洁待镀产品，经清洗完毕后，产品可直接装炉进行涂层制备。
真空蒸发镀膜
真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由 M.法拉第在 1857年提出，经过一百多年的发展，现已成为主流镀膜技术之一。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是应用广泛的镀膜技术，主要应用于光学元器件、LED、平板显示和半导体分立器的镀膜。真空镀膜材料按照化学成分主要可以分为金属/非金属颗粒蒸发料，氧化物蒸发料，氟化物蒸发料等。
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汽车轮毂镀膜设备与您分享基体外表状况对镀层布局的影响
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。
离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。