1分钟前 茂港计算机壳曝光显影加工电话在线咨询「在线咨询」[利成感光38dbdb8]内容：曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，为感光的油墨被显影液去除，通过这样的方式，需要蚀刻的图案显影在钢片上面了。曝光：在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中，使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。显影：通过将芯片表面的光刻胶所形成的图案暴露在显影液中进行刻蚀，去除光刻胶的非芯片图案区域，使得芯片上仅保留出所需要的器件结构。
摄影：在摄影中，曝光显影将场景中的光线信息记录在胶片上或电子传感器中，并通过显影将记录的信息转化为可见影像。半导体工业：在半导体加工中，曝光显影主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。制版：在制造印刷版时，曝光显影用于将印刷图形转移到印刷版上。纳米加工：在纳米加工中，曝光显影技术用于制造纳米结构和纳米器件等。
曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力，但是其性能仍然与正胶有比较大的差距，所以提出负显影（Negative Tone Develop，NTD）。用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中
