宽带通滤光膜
近期成功的应用，是用于制造低辐射玻璃(LOW-E玻璃)，可以用于发展一种反射而又可透过太阳光的建筑窗口玻璃。这在能源费用不断上涨的今天，光学薄膜必将发展成一个大的产业。
由此可见，光学薄膜在光学装置中起到了重要的作用，我们甚至可以认为，没有光学薄膜就没有近代光学系统。光学薄膜的应用领域也随着科学技术的发展而不断发展，光学薄膜与光电子薄膜结合，与能源、环保等其他新技术结合，除了不断地创造着新概念、新应用外，还会不断地产生新兴产业，推动着光学薄膜朝着更宽广的范围、更纵深的领域发展。
金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
金属真空镀膜与您分享磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，有效方法就是配合实验具体分析。是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
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金属真空镀膜与您分享电阻加热蒸发
电阻加热蒸发电阻加热蒸发方式是简单也常用加热方法，一般适用于熔点低于1500℃的镀膜材料，通常将线状或片状的高熔点金属(W、Mo、Ti、Ta、氨化硼等)做成适当形状的蒸发源，装上蒸镀材料，通过电流的焦耳热使镀料熔化、蒸发或者升华，蒸发源的形状主要有多股线螺旋形、U形、正弦波形、薄板形、舟形、圆锥筐形等。同时，该方法要求蒸发源材料具有熔点高:饱和蒸气压低:化学性能稳定，在高温下不应与镀膜材料发生化学反应:具有良好的耐热性，功率密度变化小等特点，采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发,或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物(如A202，BO)等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。
电阻加热蒸发镀膜具有局限性:难熔金属具有低的蒸气压，难以制成薄膜:有此元素容易和加热丝形成合金:不易得到成分均匀的合金膜。由于电阻加热蒸发方式结构简单、价格低廉、易于操作，因而是一种应用很普遍的蒸发方式。