真空镀中对底涂层的要求：
①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。
②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。
③成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。
④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。
⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。
粗抽泵：从大气压下开始抽气，并将系统压力抽到另一真空泵开始工作的真空泵。如真空镀膜机中的滑阀泵，就是粗油泵。
(4)维持泵：在真空系统中，气量很小时，不能有效地利用前级泵。为此配置一种容量较小的辅助泵来维持主泵工作，此泵叫维持泵。如扩散泵出口处配一台小型旋片泵，就是维持泵。
只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品品质。加工件进入镀膜室前一定要做到认真的镀前清洁处理，表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物，为了避免加工过程中造成的不良，真空镀加工厂家基本上可采用去油或化学清冼方法将其去掉。电子产品体积越来越小，越来越复杂，Parylene共形涂敷能够提供超薄无防护来保证元件的可靠性和使用寿命。
塑料在真空镀膜前为何要涂层？
大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，主要原因是有以下几点：
一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。
真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高镀层的光亮度。
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。