真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。其防尘、防潮、防水的耐透气性效果，可使产品达到国际性防尘、防水的IP等级规范(*注1)。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
Parylene涂层，其性能可以满足电路组件的涂层需要。这些透明的聚合物实际上是高结晶和线性的，具有优异的介电和屏蔽性能，以及化学惰性，而且致密无。
用Parylene涂敷的集成电路硅片细引线可加固5-10倍，Parylene还能渗透到硅片下面，提高硅片的结合强度，提高集成电路的可靠性。
针对印刷线路板、混合电路的涂层防护是Parylene普及的应用之一，它符合美国军标Mil-I-46058C中的XY型各项指标，满足IPC-CC-830B防护标准。除化学气相沉积法外，其他几种方法均具有以下的共同特点：(1)各种镀膜技术都需要一个特定的真空环境，制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动，不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰，并消除大气中杂质的不良影响。在盐雾试验及其它恶劣环境下仍能保持电路板的高可靠性，并且不会影响电路板上电阻、热电偶和其它元器件的功能。
真空镀膜有几种方式？
1、真空蒸发镀膜
在真空室中加热蒸发容器中的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到待镀产品表面，凝结形成固态薄膜的方法。
2、离子镀膜
蒸发源的加热和蒸发镀膜相同。由于系统为等离子状态，使金属离子在产品表面吸附成膜，金属离子具有高能量，镀膜时离子结晶性佳、膜层的密着性高等。
3、磁控溅射镀膜
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在产品表面形成金属膜层的方法。