金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
钛合金pvd镀膜与您分享真空镀铝常见质量问题如下：
1、镀铝时薄膜出现孔洞
原因： ①蒸发舟内铝料太满。解决方法：降低送铝速度；提高蒸发舟电流。
②真空室内蒸发舟之间出现短路。解决方法：排除短路。
③真空室内杂质飞溅
2、镀铝时薄膜出现拉伸现象
原因： ①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力控制系统，适当减少张力。
②冷却系统工作失常。解决方法：检查冷却系统，并排除故障。
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钛合金pvd镀膜与您分享低真空（102～10-1Pa）
在低真空状态下，每立方厘米内的气体分子数为1018～1018个。气体分子密度与正常大气压有很大差别，气体中的带电粒子在电场作用下，会产生气体导电现象。这时，气体的流动也逐渐从黏稠滞流状态过渡到分子状态，这时气体分子的动力学性质明显，气体的对流现象完全消失。因此，如果在这种情况下加热金属，可基本上避免与气体的化合作用，真空热处理一般都在低真空区域进行。此外，随着容器中压强的降低，液体的沸点也大为降低，由此而引起剧烈的蒸发，而实现所谓"真空冷冻脱水"。在此真空区域，由于气体分子数减少，分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟，并且分子之间的碰撞次数减少，而分子与容器壁的碰撞次数却大大增加。
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钛合金pvd镀膜与您分享如果生产过程中的真空度不够，表面上沾了灰尘或油滴之后会出现严重的后果。集成电路中细线的宽度是吸烟时吐出的烟雾颗粒直径的1/3，是一粒灰尘直径的近万分之一。对集成电路而言，哪怕落有一颗烟雾的颗粒，就好像大路上停了一架大型飞机一样，使电子无法通过或造成短路。
新材料开发离不开真空。
以分子束外延为代表的薄膜生长技术是新材料开发的重要手段，薄膜材料放到蒸发源中之后被蒸发或升华，在高真空环境中，薄膜材料的原子或分子可以长距离飞行，到达衬底成膜;而且由于残留气体少，衬底表面形成的薄膜纯度高。
表面科学领域对真空度的要求高。