由于爱德华真空泵采用了高精度的均匀性调整和降噪措施，所以其运行时产生的噪音和振动非常小，从而可以在安静的环境下运行，不会对用户造成干扰。爱德华真空泵的操作简单易懂，可以通过操作手柄进行直观的控制，无需太多的技术背景，操作者可以顺利掌握和使用设备。
爱德华真空泵可以用于半导体器件制造过程的原子堆积、蚀刻和薄膜沉积，有助于改善器件的性能和稳定性。且爱德华真空泵可支持光学设备的组装、镀膜和清洗等工艺，帮助光学制造业优化生产流程、提高产品质量。
爱德华真空泵基于物理原理，通过排气系统将气体从密封容器中抽出，从而实现真空环境的建立。其主要原理包括：
正压排气：爱德华真空泵采用正压排气原理，即通过连续增加气体分子的动能将气体抽出。它使用转子和定子之间的螺旋结构产生离心力，将气体分子向泵的出口推进。
压缩：爱德华真空泵通过连续的压缩过程将气体排出。气体经过旋转活塞或螺杆等装置，逐渐被压缩至较高的压力，然后排入后级真空泵或抽气站。
爱德华真空泵有多种型号和系列，常见的型号包括RV系列、E2M系列、XDS系列等。每个系列的真空泵都具有特定的性能和应用范围。RV系列真空泵适用于一般低真空抽排应用，如实验室、化工、医学等领域。E2M系列真空泵适用于中高真空抽排应用，如半导体制造、高真空实验等领域。XDS系列真空泵则适用于干式抽排应用，具有无污染、效益高和低维护成本的特点。