3分钟前 充电宝曝光显影订制在线咨询 利成感光[利成感光38dbdb8]内容:3D玻璃遮蔽可以移印,贴合,曲面角度小还是可以做贴合工艺;还有就是曝光显影;比如vivo X21,是中间贴膜,四周用喷墨曝光显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板(光罩/Mask),掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触,通过曝光技术,使图形转印到玻璃之上,完成原有印刷之功能。蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序,曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上,然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准,再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间,固定后进行曝光。曝光显影工艺可以分为以下步骤:准备硅片:在硅片上涂覆光刻胶,将硅片和光刻胶一起加热,使其在表面形成均匀的光刻胶层。照射:使用紫外线辐射光源将芯片图案(或感光掩膜中的图案)通过掩膜传递到光刻胶层上。显影:将曝光后的硅片浸泡在显影液中,在此过程中,光刻胶会在掩膜中没有被曝光的部分(即需要去除的图案区域)中被消蚀,并暴露出硅片表面。显影液表面停留(puddle):为了让显影液与光刻胶进行充分反应,显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法,也被称为光刻工艺。它是通过在芯片表面上涂覆一层光刻胶,并使用掩膜在光刻胶上曝光出所需要的芯片图案,通过显影来去除未曝光的部分,将芯片图案准确地转移到芯片表面的制程。