半导体清洗超纯水设备水质标准：半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美*半导体工业用纯水指标、*本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体清洗超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(*新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(*新工艺)
苏州伟志水处理有限责任公司擅长水处理设备的研发、设计、安装与销售。在水处理设备设计的范畴，本公司会聚时代精英人物，涉及食品、电子、医药、化工、工业、社区用水各个行业。设计包括纯水设备、超纯水设备、中水回用设备、离子交换设备、软化设备、海水淡化设备等原水、污水处理设备。
我们的水处理设备工程师在专业水处理行业拥有十数年的丰厚经历，在国内外为各个企业专业设计、安装、调试大、中、小型水处理工程及设备，他们的出色表现给各企业留下了深刻的印象。